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曝光机概述

2021-11-06 10:12:32

光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

曝光机概要:

生产集成电路的简要步骤:

利用模版去除晶圆表面的保护膜。

将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。

用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。

其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。

一片晶圆可以制作数十个集成电路,根据模版曝光机分为两种:

模版和晶圆大小一样,模版不动。

模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。

其中模版随曝光机移动的方式,模版相对曝光机中心位置不变,始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度成为的主流。


曝光机


曝光机定制分类:

曝光机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动

A 手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;

B 半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;

C 自动: 指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。


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