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曝光机基本工作原理

2021-11-06 10:15:30

曝光机(非标曝光机定制)是20世纪60年初扫描电子显微镜基础发展而来的一种新光刻技术 ,在70年代后广泛应用于半导体电路板生产制造。曝光机即电子串曝光机,是集电子光学、机械、真空、电气、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。

曝光机基本工作原理

在计算机的控制下,利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光,受电子束辐照后的光刻胶,其物理化学性质发生变化,在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域,从而在抗蚀剂上形成精细图形。根据电路板的线路的粗细来决定上下光源的曝光能量,能量不足电路板无法曝光,要是能量过高电路板就会过曝,所以在曝光电路板时,必须先测试电路板所需的能量,从而进行电路板的曝光生产。


曝光机


曝光机的优点:

1、均匀度 90% 以上;

2、线路板解析度可达到50μm。

3、节能 80% ,四年内无需更换灯管,无冷却水消耗;

4、紧密的光学组合,使光源投射的平行半角小于2°;

5、曝光面积为:1000mm×750mm/1300mm×750mm/1500mm×750mm;

6、真空盖板自动升起,避免员工繁重的体力劳动;

7、LED逐点校正系统实时,实时监控每个发光单元的强度状态;

8、超高能量,能有效取代8KW/10KW12KW传统汞灯阻焊曝光机,曝光时间为 20秒 ;


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